晶圆缺陷检测/评审装置
MAGICS系列 M5640
满足下一代工艺所需的微小缺陷检测的高灵敏度缺陷检测/评审系统
特点
对 PID、浅划伤、COP、SF 等致命缺陷的高灵敏度检测
63 路扫描激光与高速 XY 平台实现高通量
对镜面抛光/外延/SOI/石英等晶圆的高灵敏度检测
基于共焦光学的高速高分辨评审
金刚石压头无尘标记,便于与 SEM/AFM 等设备联动分析
夹持方式可选:出货/收货用边缘夹持(背面非接触);评估用真空吸附(6/8/12 英寸)
支持 FOUP、FOSB 与开口式卡匣
应用
晶圆制造工艺的评价与改进
晶圆的出货/收货检验
抛光与清洗材料的开发
规格
| 检查光源波长 | 532nm |
| 最高检测灵敏度 | 50 nm(镜面抛光晶圆上的 PSL) |
| 检查时间 | 22 分/片(300 mm 晶圆,常规扫描) |
| 评审时间 | 2 秒/点 |
MAGICS 采用雷傣核心的共焦光学系统,具备散射光检测无法实现的特性,广泛用于晶圆的评价解析与工艺改善,已成为行业标准机。
・对 PID、浅划伤、COP、SF 等致命缺陷的高灵敏度检测
・高速高分辨评审以实现精准缺陷分类
・在雾度/背面反射影响下散射光难以实现高灵敏检测的外延、石英等晶圆亦可高灵敏检测
随着设计规则微细化,晶圆质量要求不断提升,对检测设备的要求也日益提高;同时,降低散射光检测难以检出的缺陷种类的需求也在增加。
M5640 在保持 MAGICS 特点的同时,实现了更高的检测灵敏度与约半减的检测时间;并可选配背面非接触夹持,可用于评价解析以及出货/收货检测。