掩模边缘检测装置
MZ100
光掩模边缘缺陷检测装置
特点
支持尖端半导体用EUV及DUV光掩模
采用共焦光学系统,实现高灵敏度检测和高精度测量
支持光掩模边缘部(侧面、斜面)检测
应用
EUV及DUV光掩模边缘部缺陷检测
缺陷审查
缺陷尺寸、高度测量
各种工艺变动的监控
规格
| 检测区域与扫描方法 | 可检测光掩模中央146 x 146mm²以外的所有区域。※参见下图 |
MZ100是光掩模边缘缺陷检测装置。可高精度检测掩模边缘部分产生的缺陷,为掩模的质量管理做出贡献。
随着半导体器件的微细化不断推进,光掩模的质量管理要求更加严格。MZ100为了应对这些要求,提供高精度的边缘检测功能。