掩模边缘检测装置

MZ100

光掩模边缘缺陷检测装置

特点

支持尖端半导体用EUV及DUV光掩模

采用共焦光学系统,实现高灵敏度检测和高精度测量

支持光掩模边缘部(侧面、斜面)检测

应用

EUV及DUV光掩模边缘部缺陷检测

缺陷审查

缺陷尺寸、高度测量

各种工艺变动的监控

MZ100

规格

检测区域与扫描方法 可检测光掩模中央146 x 146mm²以外的所有区域。※参见下图
MZ100检测原理图

MZ100是光掩模边缘缺陷检测装置。可高精度检测掩模边缘部分产生的缺陷,为掩模的质量管理做出贡献。

随着半导体器件的微细化不断推进,光掩模的质量管理要求更加严格。MZ100为了应对这些要求,提供高精度的边缘检测功能。