掩模缺陷审查装置

MRS193EX

ArF掩模审查站

特点

通过短波长化实现高分辨率

支持100nm以下的掩模图案·缺陷审查

可观察带保护膜的掩模

通过高精度载物台实现坐标数据联动

视野内缺陷的自动检测·高亮显示

应用

缺陷检测后的掩模缺陷审查

缺陷的尺寸测量

异物(可清洗)与图案缺陷(需修正)的判定支持

相位差·透过率测量(选配)

MRS193EX

规格

光源 ArF 准分子激光器 (193nm)
分辨率 支持100nm以下的掩模图案·缺陷审查
对应掩模 可观察带保护膜的掩模

MRS193EX是面向掩模制造中缺陷检测后缺陷观察的装置。通过短波长化实现高分辨率,对100nm以下的掩模图案和缺陷的审查有效。也可观察带保护膜的掩模,保持作业效率和精度。

使用高精度载物台,可通过缺陷检测装置的坐标数据轻松观察缺陷。此外,还具有自动检测视野内缺陷并高亮显示的功能,使审查更加顺畅。

该装置与MPM193EX采用共同平台,可通过选配添加位相移掩模的相位差·透过率测量功能、内置AFM(三维测量)、缺陷转印模拟软件联动。

MRS193EX是多功能、高性能的掩模缺陷审查装置,在掩模制造中的缺陷观察和质量管理方面发挥着重要作用。