掩模缺陷审查装置
MRS193EX
ArF掩模审查站
特点
通过短波长化实现高分辨率
支持100nm以下的掩模图案·缺陷审查
可观察带保护膜的掩模
通过高精度载物台实现坐标数据联动
视野内缺陷的自动检测·高亮显示
应用
缺陷检测后的掩模缺陷审查
缺陷的尺寸测量
异物(可清洗)与图案缺陷(需修正)的判定支持
相位差·透过率测量(选配)
规格
| 光源 | ArF 准分子激光器 (193nm) |
| 分辨率 | 支持100nm以下的掩模图案·缺陷审查 |
| 对应掩模 | 可观察带保护膜的掩模 |
MRS193EX是面向掩模制造中缺陷检测后缺陷观察的装置。通过短波长化实现高分辨率,对100nm以下的掩模图案和缺陷的审查有效。也可观察带保护膜的掩模,保持作业效率和精度。
使用高精度载物台,可通过缺陷检测装置的坐标数据轻松观察缺陷。此外,还具有自动检测视野内缺陷并高亮显示的功能,使审查更加顺畅。
该装置与MPM193EX采用共同平台,可通过选配添加位相移掩模的相位差·透过率测量功能、内置AFM(三维测量)、缺陷转印模拟软件联动。
MRS193EX是多功能、高性能的掩模缺陷审查装置,在掩模制造中的缺陷观察和质量管理方面发挥着重要作用。