MPM193EX

MPM193EX是已成为行业标准机的MPM193相位差测量装置的后继机型，测量性能得到提升。可测量带保护膜的掩模，自动检测功能也比传统型号有所改进。

能够在1μm以下的微小区域进行相位差测量是一大特点。在半导体等高精度领域，能够很好地满足检测需求。在半导体器件小型化、高集成化的今天，掩模等部件的精细检测变得重要，MPM193EX能够捕捉微小区域的信息，成为保持质量的有力支持。

装置配置方面，标准配备了自动装载器和带化学过滤器的微环境。由此，可以创建稳定洁净的检测环境，抑制外部因素对测量结果的影响，保持高精度和稳定性。

此外，由于与MRS193EX使用共同的平台，用户可以根据需要，通过选配添加掩模缺陷审查功能。这样，装置不仅能完成测量和检测的基本任务，还能进行缺陷分析和审查，整体价值得到提升。