MATRICS X9ULTRA系列

光掩模检测装置MATRICS X810EX系列以及X8ULTRA系列凭借其优异的检测性能、低运行成本以及高可靠性，在全球的晶圆厂和掩模车间得到广泛应用并获得高度评价。
我们将无保护膜EUV掩模上的微小异物检测性能相比传统装置进一步提升的X9ULTRA系列产品化。

在半导体器件市场中，面向5G、HPC、高性能服务器等的需求持续增长，在半导体器件的制造工艺中，EUV光刻的使用正在扩大。Lasertec于2018年以检测EUV掩模上的微小异物为目的，将X8ULTRA系列产品化，作为无保护膜EUV掩模的检测装置获得了高度好评。此次发布的X9ULTRA系列中，通过搭载新自主开发的高功率193nm激光光源以及高NA物镜，相比传统机型进一步提升了微小异物检测性能。