EUV掩模检测装置

BASIC系列

EUV掩模背面检测/清洁装置

特点

针对EUV掩模背面异物检测优化的检测光学系统

对EUV曝光产生影响的异物高度测量功能

对EUV曝光产生影响的异物清洁（去除）功能

无粉尘风险的双Pod处理方式

不损伤图案的扫描方式

适用于EUV量产的检测时间

与OHT（Overhead Hoist Transport）联动的全自动检测

电源·控制系统内置本体的All-in-One设计实现紧凑化

晶圆厂中EUV掩模背面的定期管理·验收检查

EUV掩模背面异物的检测·高度测量·清洁

掩模制造商、空白掩模制造商处的出货检查

装置本体尺寸	1,550 (W) x 2,955 (D) x 2,400 (H)
检测对象掩模	EUV masks (6 inch)
其他	根据客户需求，我们将为您提供BASIC系列检测、测量以及清洁功能的最佳组合方案。详情请咨询。

BASIC系列是将EUV掩模背面检测和清洁集成于一体的装置。在EUV掩模的质量管理中发挥重要作用，通过检测和去除掩模背面附着的异物和污垢，维持掩模的性能。

随着EUV光刻的实用化，对EUV掩模的质量管理提出了更严格的要求。BASIC系列为了应对这些要求，提供高精度的检测功能和有效的清洁功能。