ACTIS A300系列

为了追求半导体器件的高功能化、运行速度的提升和功耗的降低，其制造工艺中持续要求微细化。使用EUV光刻的半导体制造已经应用于量产，我们销售的EUV图案掩模检测装置ACTIS A150因其优异的检测性能在市场上获得高度评价。

为了应对进一步的微细化工艺和High NA EUV光刻，我们推出了ACTIS的次世代机型A300系列。

A300系列采用新设计的光学系统和"URASHIMA"高亮度光源，相比传统的A150系列实现了更高的缺陷检测性能。

High NA光刻采用XY方向投影倍率不同的变形光学系统，各方向需要不同的分辨率。A300系列支持现行NA光刻用和High NA光刻用两种EUV掩模检测。