ABICS系列 E320

ABICS系列"E120"凭借对相位缺陷的高检测灵敏度和缺陷坐标精度，在出货检测和缺陷Mitigation技术中得到了广泛应用，获得了客户的高度评价和信赖。

另一方面，面向半导体器件进一步微细化的High NA EUV光刻技术实用化的技术研究正在推进，EUV掩模空白需要管理更微小的相位缺陷。

此次产品化的ABICS系列"E320"，通过采用新设计的高倍率施瓦茨希尔德光学系统和照明光学系统的优化，实现了High NA EUV光刻技术时代所需的缺陷检测灵敏度和缺陷坐标精度。