EUV掩模空白检测/评审装置
ABICS系列 E120
检测EUV掩模空白上的可打印相位缺陷，实现缺陷管理
特点
Actinic inspection（采用λ=13.5nm的EUV光源）
高灵敏度检测Mo/Si多层膜内部的可打印相位缺陷
暗场光学系统实现高灵敏度、高速检测
高倍率评审实现高精度缺陷坐标获取
明场/暗场评审进行缺陷分析
应用
EUV掩模空白（Mo/Si多层膜）检测
EUV掩模空白缺陷分析
高精度缺陷位置检测
随着器件图案的微细化，下一代EUV光刻技术的实际应用正在逼近，能够进行EUV掩模空白质量控制的检测系统的安装迫在眉睫。
我们开发了ABICS "E120"，这是一种EUV掩模空白缺陷检测/评审系统，有助于EUV掩模空白的缺陷管理和良率提升。
由于本系统采用使用EUV光的检测/评审方法，因此可以选择性检测可打印缺陷并使用EUV光进行缺陷分析。这些功能极大地有助于EUV掩模空白的缺陷管理和良率提升。
