OPTELICS AI²

在半导体器件市场中，功率器件、5G、HPC等各个领域的需求持续增长，半导体器件制造工艺需要持续的产品开发来提升性能。利用新设计、新材料的器件商业化，需要跨部门解决众多课题，包括样机评估、量产时的质量管理、为提高良品率而进行的工艺改进等。

"AI²"能够从自动缺陷检测到缺陷审查、三维形状测量，一台设备即可应对，从开发到生产的各个场景都能发挥作用。

本装置整合了本公司的核心技术——共聚焦光学系统、在半导体检测装置开发中积累的自动检测软件，以及新设计的高速硬件，实现了高吞吐量的高速检测功能与共聚焦形状测量共聚焦显微镜的高倍率形状测量功能。此外，通过采用深度学习的AI检测技术，提供高精度图像分类、带图案基板检测、特定类型缺陷提取等高级检测功能。