SICA88
特長
表面欠陥と同時に、BPD・SFなどの結晶欠陥を高速・高感度に検出
高解像度レビュー画像と自動欠陥分類(ADC)により、各種欠陥を高精度に分類
AGV/OHTなど工場自動化に対応し、量産ラインへの導入を容易化
用途
SiCウェハ/エピウェハの出荷・受入検査
SiCエピタキシャル成長プロセスの管理
SiC研磨プロセスの管理
SiCデバイス製造プロセスの管理
SiCパワーデバイスはすでにエアコン、太陽光発電システム、鉄道車両などに使用されており、今後電気自動車などへの搭載が期待され、市場を着実に拡げております。しかし、SiCパワーデバイスは、その製造の難しさゆえに、いまだ生産工程において結晶欠陥などの様々な問題が発生しており、品質の確保とコストの両面で大きな課題を抱えています。ウェハメーカーではウェハの品質向上と品質管理が必要とされ、デバイスメーカーにおいてはデバイスの歩留り向上と、さらなる低コスト化が求められています。
SICA88は従来からのコンフォーカルDIC光学系による表面検査とPL検査を1台に搭載した新しいプラットフォームの検査装置です。表面検査ではウェハ表面のスクラッチやエピ欠陥を、PL検査ではエピ膜内部の基底面内転位(BPD)や積層欠陥(SF)を同時に検出・高精度分類・判定することで、デバイスの不良原因となる欠陥の発見および解析に役立ちます。また、スループットは既存機種であるSICA6Xの2倍に高めました。さらに、BPD検査を行う場合もスループットを落とさず検査ができます。本装置はウェハプロセス、Epiプロセス、デバイスプロセスの各プロセスモニタとして、欠陥発生の原因追及に最適であり、さらにウェハのグレーディング※1によるプロセスコストの削減とデバイスの歩留り向上を可能にいたします。