ウェハエッジ形状測定装置
EZ300
ウェハ外周部の歩留まり定量管理とプロセス異常解析用途
特長
共焦点光学系による高コントラスト画像での欠陥検出
独自アルゴリズムによる凹凸判定を含む自動欠陥分類
高解像度3D測定機能により欠陥種類の特定・推測が容易
用途
オンラインQCによるウェハ外周部の定量管理と異常プロセス発生時の早期警報
SPC(統計的工程管理)によるウェハ外周部不良チップ発生時のトレース分析
ウェハ外周部欠陥による歩留まり悪化原因の把握・分析