マスクエッジ検査装置
MZ100
フォトマスクエッジの欠陥検査装置
特長
先端半導体向けEUVおよびDUVフォトマスクへ対応
コンフォーカル光学系を用いた高感度検査、高精度の測定が可能
フォトマスクのエッジ部(サイド面、ベベル)に対応
用途
EUVおよびDUVフォトマスクのエッジ部欠陥検査
欠陥レビュー
欠陥サイズ、高さ測定
各種プロセス変動のモニター
仕様
| 検査領域とスキャン方法 | フォトマスク中央146 x 146mm²以外の全ての領域を検査可能。※下図参照 |
MZ100は、フォトマスクエッジの欠陥検査装置です。マスクのエッジ部分に発生する欠陥を高精度で検出し、マスクの品質管理に貢献します。
半導体デバイスの微細化が進む中、フォトマスクの品質管理はより厳格な要求が求められています。MZ100は、これらの要求に対応するため、高精度なエッジ検査機能を提供します。