マスク欠陥検査装置

MATRICS X800LITEシリーズ

デザインノード≧28nmに対応可能な半導体マスク検査装置

特長

デザインノード≧28nmに対応できる半導体マスク検査システム

ピクセルサイズ100nm、ハイパワー213nm QCWレーザー（>400mW）を搭載し、高感度化を達成

欠陥検出システムの高速化により、スキャン時間38分/100mm×100mmエリアを実現

マスクのパターン寸法分布（CD uniformity）をマスク検査と同時に計測し、可視化する機能を搭載

フォトマスク用RSP150、RSP200に対応可能

OHT（Overhead Hoist Transport）と連動した全自動検査が可能

ステージ系と電気ラック系を一体化した設計により、コンパクトなフットプリントを達成

ウェハファブにおけるフォトマスクの受入検査、定期的な品質確認検査

フォトマスクの製造工程における出荷前検査

MATRICS X800LITEシリーズは、コンパクトなフォトマスク欠陥検査装置です。限られたスペースでも設置可能で、効率的な検査を実現します。

X800LITEシリーズは、小型化された設計により、設置コストを抑えながらも高精度な欠陥検出機能を提供します。中小規模のマスクショップや研究開発施設に最適です。