ABICSシリーズ E120

デバイスパターンの微細化に伴い、次世代EUVリソグラフィーの実用化が迫っており、EUVマスクブランクスの品質管理が可能な検査システムの導入が急務となっています。

当社は、EUVマスクブランクスの欠陥管理と歩留まり向上に貢献するEUVマスクブランクス欠陥検査・レビューシステム「ABICS E120」を開発しました。

本システムは、EUV光を用いた検査・レビュー方式を採用しているため、転写性欠陥の選択的検出とEUV光による欠陥解析が可能です。これらの機能により、EUVマスクブランクスの欠陥管理と歩留まり向上に大きく貢献します。