マスクエッジ検査装置

MZ100

フォトマスクエッジの欠陥検査装置

特長

先端半導体向けEUVおよびDUVフォトマスクへ対応

コンフォーカル光学系を用いた高感度検査、高精度の測定が可能

フォトマスクのエッジ部(サイド面、ベベル)に対応

用途

EUVおよびDUVフォトマスクのエッジ部欠陥検査

欠陥レビュー

欠陥サイズ、高さ測定

各種プロセス変動のモニター

MZ100

仕様

検査領域とスキャン方法 フォトマスク中央146 x 146mm²以外の全ての領域を検査可能。※下図参照
MZ100検査原理図

MZ100は、フォトマスクエッジの欠陥検査装置です。マスクのエッジ部分に発生する欠陥を高精度で検出し、マスクの品質管理に貢献します。

半導体デバイスの微細化が進む中、フォトマスクの品質管理はより厳格な要求が求められています。MZ100は、これらの要求に対応するため、高精度なエッジ検査機能を提供します。