マスク欠陥レビュー装置

MRS193EX

ArFマスクレビューステーション

特長

短波長化による高解像度実現

100nm未満のマスクパターン・欠陥レビュー対応

ペリクル付きマスクの観察可能

高精度ステージによる座標データ連携

視野内欠陥の自動検出・ハイライト表示

欠陥検査後のマスク欠陥レビュー

欠陥のサイズ測定

異物（洗浄可）とパターン欠陥（修正要）の判定支援

位相差・透過率測定（オプション）

MRS193EXは、マスク製造で欠陥検査後の欠陥観察に向いた装置です。短波長化により高解像度を実現し、100nm未満のマスクパターンや欠陥のレビューに有効です。ペリクル付きマスクも観察可能で、作業の効率と精度を保てます。

高精度ステージを使い、欠陥検査装置の座標データで欠陥を簡単に観察できます。また、視野内欠陥を自動検出してハイライト表示する機能があり、レビューがスムーズになります。

この装置はMPM193EXと共通プラットフォームを持ち、オプションで位相シフトマスクの位相差・透過率測定機能やAFM内蔵（3次元計測）、欠陥転写シミュレーションソフトウェア連携を追加できます。

MRS193EXは多機能で高性能なマスク欠陥レビュー装置で、マスク製造における欠陥観察や品質管理に重要な役割を果たしています。