MPM193EX

業界標準機となったMPM193位相差測定装置の後継機で、測定性能が向上しています。ペリクル付きマスクの測定ができ、自動検査機能も従来のモデルより改善されています。

1μm 以下の微小領域での位相差測定が可能なことは大きな特徴です。半導体などの高精度な分野で、検査のニーズにうまく対応できます。半導体デバイスが小型化、高集積化している今、マスクなどの部品の微細な検査が重要になっている中、MPM193EX はその微小領域の情報を捉えることができ、品質を保つための有力なサポートになっています。

装置の構成としては、オートローダーとケミカルフィルター付きのミニエンバイロメントが標準装備されています。これにより、安定した清浄な検査環境が作られ、外部要因による測定結果への影響を抑え、高精度と安定性を維持できます。

また、MRS193EX と共通のプラットフォームを使っているので、ユーザーは必要に応じて、マスク欠陥レビュー機能をオプションで追加できます。これで、装置は測定や検査の基本的なタスクをこなすだけでなく、欠陥の分析やレビューもできるようになり、全体的な価値が高まります。