マスク検査装置

MATRICS X9ULTRAシリーズ

テクノロジーノード3nm以降のペリクル非装着EUVマスクに特化したマスク検査システム

特長

テクノロジーノード3nm以降のペリクル非装着EUVマスクに特化したマスク検査システム

ハイパワー193nmレーザーおよび高NA対物レンズの搭載により、微小異物検出性能を向上

用途

ウェハファブにおけるペリクル非装着EUVマスクの品質確認検査

EUVマスクの製造工程における、微小異物検査

MATRICS X9ULTRAシリーズ

フォトマスク検査装置、MATRICS X810EXシリーズならびにX8ULTRAシリーズは、その優れた検査性能、低ランニングコストおよび高い信頼性により、全世界のウェハファブや、マスクショップでご活用いただいて高評価を得ております。
ペリクル非装着EUVマスク上の微小異物検査性能を、従来装置よりもさらに向上したX9ULTRAシリーズを製品化いたしました。

半導体デバイス市場では5GやHPC、高性能サーバー向けをはじめとする需要増大が続いており、半導体デバイスの製造工程ではEUVリソグラフィの利用が拡大しています。レーザーテックは、2018年にEUVマスク上の微小異物検出を目的として、X8ULTRAシリーズを製品化し、ペリクル非装着EUVマスクの検査装置としてたいへんご好評をいただいてまいりました。今回発表するX9ULTRAシリーズでは、新たに自社開発したハイパワー193nmレーザー光源および高NA対物レンズを搭載する事により、従来機よりもさらに微小異物検出性能を向上しております。