マスク検査装置

MATRICS X8ULTRAシリーズ

テクノロジーノード7nm/5nm/3nmのペリクル非装着EUVマスクおよびフォトマスクに対応可能なマスク検査装置

特長

テクノロジーノード7nm/5nm/3nmのペリクル非装着EUVマスクおよびフォトマスクに対応できるマスク検査システム

ピクセルサイズ45nm、ハイパワー213nmQCWレーザー(＞400mW)、および2種類の偏光照明により、異物検出性能が向上

初期状態のマスクパターンの全画像を保存し、ウェハ露光後のマスクパターンと比較して、マスク上の異物を検出するマスクtoマスク比較検査機能（MtM機能）を搭載

EUVマスク用のDual Pod、フォトマスク用のRSP150、RSP200に対応可能

OHT（Overhead Hoist Transport）と連動した全自動検査が可能

ステージ系と電気ラック系を一体化した設計により、コンパクトなフットプリントを達成

ウエハファブにおけるペリクル非装着EUVマスクの品質確認検査およびフォトマスクの受入れ検査、定期的な品質確認検査

EUVマスクの製造工程における微小異物検査、フォトマスクの出荷前検査

MATRICS X8ULTRAシリーズは、EUVマスク上の微小異物検出を目的として開発されたマスク検査装置です。ペリクル非装着EUVマスクの検査装置として高い評価を得ています。

半導体デバイス市場では5GやHPC、高性能サーバー向けをはじめとする需要増大が続いており、半導体デバイスの製造工程ではEUVリソグラフィの利用が拡大しています。MATRICS X8ULTRAシリーズは、これらの要求に対応する高精度な検査機能を提供します。