EUVマスクブランクス検査・レビュー装置
ABICSシリーズ E320
High NA EUVリソグラフィ世代に対応したEUVマスクブランクス検査装置
特長
Actinic inspection（λ=13.5nmのEUV光源を採用）
反射多層膜（Mo/Si）内部の転写性位相欠陥を高感度に検出
40x暗視野光学系による高感度かつ高速検査が可能
1500x高倍率レビューによる欠陥座標の高精度測定が可能
明視野/暗視野レビューによる欠陥解析（欠陥分類や疑似欠陥判定など）
用途
次世代EUVマスクブランクス（Mo/Si多層膜）の位相欠陥の検査
EUVマスクブランクスの位相欠陥のレビュー
欠陥Mitigationのための高精度な位相欠陥座標の出力
ABICSシリーズ「E120」は、位相欠陥に対する高い検出感度と欠陥座標精度により出荷検査や欠陥Mitigation技術に活用され、お客さまからの高い評価と信頼を得ております。
一方、半導体デバイスのさらなる微細化に向けたHigh NA EUVリソグラフィ実用化のための技術検討が進展しており、EUVマスクブランクスにおいては、より微小な位相欠陥の管理が必要となってまいります。
このたび製品化したABICSシリーズ「E320」は、新たに設計した高倍率シュバルツシルト光学系の採用と照明光学系の最適化によって、High NA EUVリソグラフィ世代に必要な欠陥検出感度と欠陥座標精度を実現いたしました。
