位相シフト干渉測定（Phase Shift Interferometry）は、単色光と二光束干渉レンズを用いて干渉縞を生成し、試料からの反射光の光路差分布を解析することで、高さ分布を高分解能で測定する手法です。光軸方向に精密にステップ移動した4つの干渉画像を位相解析することで、測定波長の半波長以内の高さ分布を求めることが可能です。

この方法は、垂直式白色干渉測定と比較して光軸方向の移動がステップ移動となるため、測定時間が短く、数秒で測定が完了します。例えば、8nmの段差を持つ標準片や、1nmから数nmの結晶成長による表面段差の測定が可能です。

この技術は、ウェハの研磨プロセスにおける研磨面の欠陥形状測定や評価など、ナノオーダーの傷や表面粗さ測定に活用されています。